Beschichtungstechnologie
Beschichtungstechnologie
Die patentierte Muttergesellschaft von HT OPTICS, HTNM, ist ein Spitzentechnologieunternehmen, das seinen Kunden fortschrittliche Produkte unter Verwendung neuer Materialien wie Saphir und AlN usw. für Anwendungen in der Optik, funktionellen Dünnfilmen, Hochfrequenzfiltern (RF), Faseroptikkomponenten, Biosensoren und piezoelektrischen Sensoren bietet.
HTNM ist ein Anbieter hochpräziser optischer Dünnschichtprodukte mit unabhängig entwickelter Dünnschichtabscheidungs-ARS-Technologie (Atomic Reactive Sputtering). HTNM erhielt 2015 ein Patent für diese innovative Technologie. Diese Technologie ermöglicht es HTNM, eine große Vielfalt an Hochleistungs-Dünnschichtprodukten herzusTellen, darunter AR-Beschichtungen, Bandpassfilter, DLC usw.
Technologievorteile:
1) Patentierte Dünnschichttechnologie ARS (Atomic Reactive Sputtering) (chinesisches Patent Nr. 201310082514.1)
2) Proprietäres optisches Überwachungsdesign für eine stabile Echtzeit-In-situ-Überwachung der optischen Eigenschaften und der Dicke auf dem Wafer
3) Proprietäres Wafer-Träger-Design für die Abscheidung von ≥9 Wafern pro Beschichtungslauf
4) Verfügt über die meisten verfügbaren PVD-Technologien: thermische Verdampfung, E-Beam, IAD, Sputtern
5) Verfügt über verschiedene Beschichtungskammergrößen und schnelle Durchlaufzeiten: 800 mm bis 1300 mm
6) Proprietäres großes Kathodendesign für stabiles Sputtern mit hoher Rate
7) Proprietäres großes Kathodendesign für Hochtemperaturprozesse: >800 °C
8) Proprietäres Vakuumkammerdesign für Prozesse, die Substrattemperaturen > 800 °C erfordern
9) Proprietäres Design und Setup zur Minimierung der Kontamination auf dem Wafer während der Abscheidung
10) Proprietäres Kammerdesign zur Trennung der Abscheidungs- und Reaktionsbereiche, um einen stabilen Durchfluss und eine stabile Pumpengeschwindigkeit sicherzusTellen
Vorteile des integrierten Service:
1) Wir bieten eine große Auswahl an Dünnschichtprodukten an:
l AR (Antireflexion)
l HR (Hohe Reflexion)
l BS (Strahlteiler)
l EF (Kantenfilter)
l BP (Bandpassfilter)
l MetAlleische Beschichtungen
l AS/AF (Anti-Fingerabdruck)
2) Dünnschichtprodukte decken UV bis NIR (190 nm bis 3 µm) ab.
3) Extrem harte Beschichtungen mit ARS-Verfahren, hohe LIDT-Beschichtungen
4) Wir sind Experten für Schmalbandpassfilter: optische Filter, High-Cavity-Filter, 3D-Kamerafilter, Fluoreszenzfilter
5) Kundenspezifische Beschichtungen und schnelles Prototyping
6) Moderne Messausrüstung: ZYGO, KLA, Cary…
Hochmoderne Läpp-/Polieranlagen für Glas, Saphir und Keramik
Möglichkeiten zur Dünnschichtbeschichtung:
Elektronenstrahl-/Wärmequellenverdampfung:
Elektronenstrahl-/Wärmequellenverdampfung | ||
Spezifikation |
Typische Toleranz |
Beste Toleranz |
Zufällige physikalische Dickenfehler | <2.0% | <1.0% |
Zufällige optische Dickenfehler | <1.0% | <0.5% |
Zentrierung von Lauf zu Lauf | ± 1.5% | ± 0.5% |
Planetarische Gleichförmigkeit | <1.0% | <0.25% |
Nass-/Trockenschaltung (Bereich) | 0.5-1.5% | 0.5-1.5% |
(HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) Laser-Schadensschwelle (HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) | >15 J/cm2 | >30 J/cm2 |
Absorption | <0.1% | <0.1% |
Streuen | <0.1% | <0.1% |
Oberflächenrauheit | 20 Å rms typisch | 10 Å rms typisch |
Ionenunterstützte Deposition (IAD)
Ionenunterstützte Deposition (IAD) | ||
Spezifikation |
Typische Toleranz |
Beste Toleranz |
Zufällige physikalische Dickenfehler | <2.0% | <1.0% |
Zufällige optische Dickenfehler | <1.0% | <0.5% |
Zentrierung von Lauf zu Lauf | ± 1.5% | ± 0.5% |
Planetarische Gleichförmigkeit | <1% | <0.25% |
Nass-/Trockenschaltung (Bereich) | 0.5-1% | 0.5-1% |
(HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) Laser-Schadensschwelle (HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) | >10 J/cm2 | >15 J/cm2 |
Absorption | <0.1% | <0.1% |
Streuen | <0.1% | <0.1% |
Oberflächenrauheit | 20 Å rms typisch | 10 Å rms typisch |
Atomreaktives Sputtern (ARS)
Atomar reaktiv Sputtern ( AR S) | ||
Spezifikation |
Typische Toleranz |
Beste Toleranz |
Zufällige Dickenfehler | <0.7% | <0.25% |
Zentrierung von Lauf zu Lauf | ± 0.5% | ± 0.25% |
Planetarische Gleichförmigkeit | <1% | <0.25% |
Nass-/Trockenschaltung (Bereich) | 0% | 0% |
(HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) Laser-Schadensschwelle (HR, 1064 nm, 10 ns, 10 Hz) | >1 J/cm2 | >1 J/cm2 |
Absorption | ~ 100 ppm (0,01 %) | ~50 Seiten pro Minute |
Streuen | ~ 100 ppm (0,01 %) | ~50 Seiten pro Minute |
Oberflächenrauheit | 10 Å rms typisch | 5 Å rms typisch |
Beschichtungstestmöglichkeiten:
Cary Spektrophotometer | ||
Prüfen |
Typischer Bereich |
Toleranz |
Transmissionsscan, normale Inzidenz | 0.190-3.0 m m | ± 0,05 % bei Absorption = 0,5 |
Reflexionsscan, normaler EinfAlle | 0.190-3.0 m m Kommerzielles Reflexionstool
HT ’s Reflexionswerkzeug
AR-Reflexionsscan |
± 1.0%
±0.50%
±0.05% |
Transmissionsscan, schräger EinfAlle | 0.190-3.0 m m 0-90 Grad. Vorrichtung mit variablem Winkel P-, S-, UNP-Polarisationen | ± 0,05 % bei Absorption = 0,5 |
Reflexionsscan, schräger EinfAlle | 0.190-3.0 m M, 45°-Befestigung Kommerzielles Reflexionstool
HT ’s Reflexionswerkzeug
AR-Reflexionsscan P-, S-, UNP-Polarisationen |
± 1.0%
±0.25%
±0.05% |
Feuchtigkeitskammer | |
Prüfen |
Typischer Bereich |
Mil. Spez. Temp. Prüfen |
-70 bis +150 °C (-94 bis 302 °F) |
Mil Spec Luftfeuchtigkeit T est |
10 %–95 % relative Luftfeuchtigkeit |
Beschichtungshärteprüfer | |
Prüfen | Typischer Bereich |
Mil Spec. Beschichtungshärtetest
| Haftung (Band) Leichter Abrieb (Käsetuch) Starker Abrieb (Radiergummi) |
Laserprüfung | |
Prüfen |
Typischer Bereich/Toleranz |
633 nm HeNe-Laser |
Ausgangsleistung = 100 m W-5 mW |
Abstimmbarer Laser |
l= 1510–1590 nm |
Laserzerstörschwelle (LDT) |
l =193 nm bis 10,6 m m (Unabhängiger Labortest) |
Interferometer | |
Prüfen |
Typische Genauigkeit (Grenze) |
Zygo Hochauflöes GPI-XP (l = 633 nm) l Reduzierstück von 4 Zoll auf 6 mm mit l /20 Wellenref. Wohnung l F/0,75, F/1,5, F/3,4, F/7,6 und F/10.6 Übertragungskugeln (4 Zoll Durchmesser) |
Ebenheit der Oberfläche:
10–152 mm Durchmesser.: l /40 (untere Grenze) |
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